人工グラフィット用GC型ポリアミド炭基フィルム
| Material: | ポリイミド | Thickness: | 25μm /50μm /75μm（±5％） |
| Width: | カスタマイズされた | Length: | カスタマイズされた |
| Package: | シンプル/縦型/吊り下げ型/横型 | Tensile Strength: | ≥200MPa |
| Dielectric Strength: | ≥100kV/mm | Volume Resistivity: | ≥1×10¹⁶ω・cm |
| Moisture Absorption: | <1.0％（24時間） | Adhesion to Copper: | ≥1.0N/mm（皮） |
| High Light: | GC型ポリマイドフィルム,炭素ベースの機能フィルム,人工グラフィットポリアミドフィルム |
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GC型ポリアミド炭素基フィルム 合成グラフィットフィルムの高性能前駆物
製品概要
私たちのGC型ポリアミド炭素基フィルムこれは二軸伸縮された高炭素生産性のPIフィルム特別に設計された人工グラフィットフィルムの製造高温グラフィティゼーション (3000°Cまで)超高分子指向性そして最適化されたイメージ化電子機器,航空宇宙,エネルギー貯蔵における熱管理材料にとって重要な.
主要 な 特徴
✔ 制御された炭素収量 (≥65%)グラフィット出力を最大化します
✔ 両軸伸縮 (MD/TD 3:1 の比)円の均一な調整を保証する
✔ 低灰分量 (<50ppm)高純度グラファイトの不純を最小限に抑える
✔高耐久性 (≤450°C前炭化)早期分解を防ぐ
✔ 調整可能な厚さ (25-125μm)目標グラフィット密度に合わせた
申請
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人工グラフィットフィルム ほら5G/LEDデバイス用の熱分散器
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燃料電池部品ガス拡散層 (GDL)
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リチウムイオン電池アノード電流収集機
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衛星部品高純度熱インターフェース
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半導体ツールソープ加工用
テクニカル仕様
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資産 |
価値 |
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材料 |
ポリミド |
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適用する |
人工グラフィットフィルム リチウムイオン電池 |
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厚さ範囲 |
25μm / 50μm / 75μm / 125μm (±3%) |
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幅 |
カスタマイズ可能 (例えば500mm-1500mm) |
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表面処理 |
コロナ治療 |
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張力強度 (MD) |
≥150 |
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張力強度 (TD) |
≥260 |
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透明性 |
≥ 90% |
なぜ我々の映画を選んだのか?
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グラフィティ化のために最適化独自のPI製剤は,ピンホールや亀裂を減らす
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バッチの一貫性繰り返しの炭化への厚さ容積 ±1%
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技術支援グラフィティゼーションプロトコルの共有 (温度上昇,ガス流量)
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二重認証JIS K 7128 と ASTM D882 に適合する
製品写真
扱い 保存 指示
BOPPフィルムの長寿と性能を保証するために,以下のガイドラインを遵守してください.
- 保存期間:製造日から6ヶ月.
- 保存条件:直接日光や湿度から遠ざけ,涼しく乾いた場所に保管してください.
- 温度範囲:10°Cから30°C
- 湿度:比較的湿度が60%以下に保たれる
- 処理:フィルムを折りたたみたり 折りたたみたりすることは避けましょう.
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標準形式:
ロールサイズ:幅500mm/1,000mm × 長さ100~300m
コアID:3 / 6 " (工業コア)
特殊部隊:
前炭化フィルム (600°Cで前焼)
カスタム化度 (制御された炭化速度のために)
生産量:200kg (サンプルロールが利用可能)
グラフィティゼーションプロセスガイドを 要求してください!
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